志圣曝光機UVE-M500是一款高精度的應用設(shè)備，以下是我司提供設(shè)備技術(shù)方案。
主要用途：液態(tài)綠漆雙面曝光。
主要系統(tǒng)：曝光控制、光源、冷卻、臺面真空、電控等系統(tǒng)。
曝光控制：采用LCD顯示器配合軟件及硬件之控制，并以數(shù)字化設(shè)定的操作方式達到更精確的能量控制。
光源系統(tǒng)：采常態(tài)點燈方式。并裝有自動遮光器配合曝光控制系統(tǒng)之強/弱光控制，達到輸出穩(wěn)定及減熱之功能。
冷卻系統(tǒng)：光源冷卻，采間接水冷。冷卻循環(huán)水經(jīng)由雙管結(jié)構(gòu)的石英玻璃管流過將熱源帶走。曝光臺面系采強制氣冷方式，且可控制溫度。燈管系采氣壓作燈頭冷卻，使其不致過熱損壞。
真空系統(tǒng)：采MYLAR薄膜對玻璃配合真空系統(tǒng)之強大吸力，達到緊密貼合之效果。
保護措施：漏電檢知、緊急開關(guān)、異常信息警告及顯示、水箱超溫保護、冷卻異常自動熄燈、冷卻循環(huán)水壓異常自動熄燈…..等。